沉積膜原理

蒸鍍膜是將某種物質(zhì)蒸鍍?cè)谒芰匣纳闲纬梢粚幽ぃū∧ぃ┑漠a(chǎn)品統(tǒng)稱(chēng)。用于蒸發(fā)的物質(zhì)是金屬（例如鋁或二氧化硅）或氧化物。

通過(guò)將這些作為薄膜附著在薄膜表面，可以在不改變基材特性的情況下附加阻隔性、設(shè)計(jì)性等新功能。沉積方法有兩種：物理氣相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）。

PVD 是一種通過(guò)加熱或碰撞等物理反應(yīng)來(lái)創(chuàng)建薄膜的方法，包括真空沉積和濺射等技術(shù)。另一方面，CVD是一種利用氣態(tài)原料的化學(xué)反應(yīng)形成薄膜的方法，被稱(chēng)為熱CVD或等離子CVD。常用的方法包括

薄膜基材為PE（聚乙烯）或PP（聚丙烯） 。）、PET（聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯）